PDMS表面修饰方法的研究进展

• 作者: 张瑞强 杨军 许蓉 赵建龙 郑小林 金庆辉
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: PDMS 表面修饰 微流控芯片
• 年，卷（期）: 2009,（15）
• 所属期刊栏目: 材料综述
• 页码范围: 5-8
• 页数: 4页
• 分类号: TB3
• 字数: 4002字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2009.15.002

摘要

聚二甲基硅氧烷(Polydimethylsiloxane,PDMS)由于具有良好的光学和化学性能,以及加工简单、价格便宜等优点,已广泛应用于微流控芯片研究领域.但PDMS的高疏水性以及它对如DNA、蛋白质等生物大分子具有较强的表面吸附特性,限制了它的应用范围.目前,基本上都是通过修饰的方法来改善PDMS表面亲水性能.按照PDMS经处理后恢复疏水性的时间长短,将PDMS表面修饰的方法分为暂时性修饰方法和永久性修饰方法;也可以按照对PDMS处理的原理分为物理修饰方法、化学修饰方法以及将两者相结合使用的方法.总之,各种方法都有很广泛的应用,实际处理时,仍要考虑到实验条件等因素的限制.概述了目前常用的几种针对PDMS表面修饰的方法,包括它们的基本原理、修饰效果以及相关应用研究.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	金庆辉	中国科学院上海微系统与信息技术研究所	90	737	15.0	19.0
2	赵建龙	中国科学院上海微系统与信息技术研究所	140	1166	18.0	26.0
3	郑小林	重庆大学生物工程学院	177	1880	21.0	34.0
4	杨军	重庆大学生物工程学院	56	744	15.0	25.0
5	许蓉	重庆大学生物工程学院	14	200	7.0	14.0
6	张瑞强	重庆大学生物工程学院	5	83	4.0	5.0