直流磁控溅射法制备ZnO:Zr透明导电薄膜及性能研究

• 作者: 刘汉法 张化福 类成新 袁长坤
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: ZnO Zr薄膜 磁控溅射 薄膜厚度 透明导电薄膜
• 年，卷（期）: 2009,（6）
• 所属期刊栏目: 加工工艺与应用
• 页码范围: 78-80
• 页数: 3页
• 分类号: TN304.2|TN304.055
• 字数: 2373字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2009.06.024

摘要

利用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备了ZnO光电性能的影响.研究结果表明,厚度对薄膜的结构和电学性能有很大的影响.制备的ZZO薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,具有C轴择优取向.在厚度为593nm时,薄膜的电阻率具有最小值1.9×10-3Ω·cm.所制备薄膜样品的可见光平均透过率都超过93%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘汉法	山东理工大学物理与光电信息技术学院	57	316	11.0	13.0
2	张化福	山东理工大学物理与光电信息技术学院	52	292	11.0	13.0
3	类成新	山东理工大学物理与光电信息技术学院	48	201	8.0	10.0
4	袁长坤	山东理工大学物理与光电信息技术学院	23	126	6.0	10.0