在蓝宝石上生长CeO_2缓冲层的原位双温工艺法及Tl-2212薄膜的技术改进

• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 化学
• 关键词: Tl-2212超导薄膜 蓝宝石 氧化铈缓冲层 原位双温工艺法
• 年，卷（期）: 2009,（11）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 7958-7965
• 页数: 8页
• 分类号: O6
• 语种: 中文

摘要

报道了在蓝宝石衬底上制备CeO_2缓冲层的原位双温工艺法及其对Tl_2Ba_2CaCu_2O_8(Tl-2212)薄膜超导特性的影响.XPS和AFM测试结果表明.采用原位双温工艺法制备缓冲层,具有工艺简单,薄膜表面光滑,衬底材料原子扩散量少等特点.在先驱膜的高温后退火过程中,40 nm厚的CeO_2薄膜就能有效地阻挡衬底材料对超导薄膜底层的扩散.随后制备厚度为530 nm的TI-2212超导薄膜具有优越的电学性能,其临界温度达到108.2 K,临界电流密度达到6.58 MA/cm~2(77 K,0 T),微波表面电阻只有185μΩ(77 K,10 GHz),超导薄膜的主要特性参数得到显著提高.