基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
利用Keating模型计算了Si(1-χ)Geχ合金中Si-Si,Ge-Ge和Si-Ge三种振动模态的拉曼频移,计算分别获得Ge浓度为0.1,0.5和0.9时,Si-Ge的振动拉曼频移分别为402.75,413.39和388.15 cm-1,这些结果与文献的实验结果符合,证明了Keating模型建立的关于原子振动模型是有效的,并可以利用拉伸压缩和相邻原子键之间弹性系数变化获得处于应变状态的拉曼光谱频率.利用Keating模型首次计算得到了非晶硅材料的单声子散射峰为477.029 cm-1,与文献实验结果480.0 cm-1相近,说明了非晶硅中原子的总体效果与晶体硅相比处于拉伸状态.
推荐文章
多孔硅微拉曼谱的温度效应研究
多孔硅
热稳定性
微拉曼谱
硅衬底上多层Ge/ZnO纳米晶薄膜的 制备及光学特性
纳米晶
Ge/ZnO多层薄膜
硅衬底
光致发光
射频磁控溅射
快速热退火
氮掺杂氟化非晶碳薄膜的拉曼光谱结构研究
等离子体增强化学气相沉积
氮掺杂氟化非晶碳薄膜
拉曼光谱
短波信道探测中多普勒频移的计算
短波
信道探测
多普勒频移
脉冲压缩
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 利用Keating模型计算Si(1-χ)Geχ及非晶硅的拉曼频移
来源期刊 物理学报 学科 物理学
关键词 Keating模型 拉曼光谱 Si(1-χ)Geχ 非晶硅
年,卷(期) 2009,(10) 所属期刊栏目 凝聚物质:结构、热学和力学性质
研究方向 页码范围 7114-7118
页数 5页 分类号 O4
字数 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1000-3290.2009.10.073
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 杨银堂 西安电子科技大学微电子学院宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室 420 2932 23.0 32.0
2 段宝兴 西安电子科技大学微电子学院宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室 14 52 4.0 5.0
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (0)
共引文献  (0)
参考文献  (0)
节点文献
引证文献  (4)
同被引文献  (3)
二级引证文献  (1)
2009(0)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
2010(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
2012(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
2013(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
2014(2)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(1)
研究主题发展历程
节点文献
Keating模型
拉曼光谱
Si(1-χ)Geχ
非晶硅
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
物理学报
半月刊
1000-3290
11-1958/O4
大16开
北京603信箱
2-425
1933
chi
出版文献量(篇)
23474
总下载数(次)
35
总被引数(次)
174683
论文1v1指导