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摘要:
研制了耐压达32 kV,通态峰值电流达3.7 kA的高压超大电流半绝缘GaAs光电导开关.分析了光电导开关在强场下的击穿机理,指出对于间接能带间隙光导材料(如Si)制作的光电导开关,开关的击穿电压主要由陷阱填充限制电导模型决定.而对于直接能带间隙光导材料(如GaAs,InP等)制作的光电导开关,开关击穿主要是由开关体负阻效应在开关阳极产生的空间电荷累积所导致的开关阳极电场剧增引起的.基于转移电子效应对GaAs光电导开关击穿电压进行了理论计算,计算结果与实验相一致.
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文献信息
篇名 高压超大电流光电导开关及其击穿特性研究
来源期刊 物理学报 学科 化学
关键词 光电导开关 击穿 转移电子效应 陷阱填充
年,卷(期) 2009,(2) 所属期刊栏目 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
研究方向 页码范围 1219-1223
页数 5页 分类号 O6
字数 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1000-3290.2009.02.086
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 施卫 西安理工大学理学院应用物理系 85 925 17.0 25.0
2 刘宏伟 中国工程物理研究院流体物理研究所 24 157 7.0 12.0
3 谢卫平 中国工程物理研究院流体物理研究所 68 501 14.0 19.0
4 王馨梅 西安理工大学理学院应用物理系 24 130 7.0 10.0
5 田立强 西安理工大学理学院应用物理系 8 96 5.0 8.0
6 马德明 西安理工大学理学院应用物理系 23 180 9.0 12.0
7 周良骥 中国工程物理研究院流体物理研究所 16 143 7.0 11.0
8 徐鸣 西安理工大学理学院应用物理系 5 48 4.0 5.0
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研究主题发展历程
节点文献
光电导开关
击穿
转移电子效应
陷阱填充
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
物理学报
半月刊
1000-3290
11-1958/O4
大16开
北京603信箱
2-425
1933
chi
出版文献量(篇)
23474
总下载数(次)
35
总被引数(次)
174683
相关基金
国家自然科学基金
英文译名:the National Natural Science Foundation of China
官方网址:http://www.nsfc.gov.cn/
项目类型:青年科学基金项目(面上项目)
学科类型:数理科学
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