高模量、低热膨胀系数聚酰亚胺杂化薄膜的制备

• 作者: 俞娟 王晓东 蒋远媛 阙正波 黄培
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 聚酰亚胺 溶胶-凝胶 纳米杂化 纳米SiO2 偶联剂
• 年，卷（期）: 2009,（z2）
• 所属期刊栏目: 纳米材料
• 页码范围: 58-60,78
• 分类号: TQ323.7
• 字数: 3235字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2009.z2.019

摘要

通过在聚酰胺酸中加入正硅酸乙酯(TEOS)和硅烷偶联剂(KH550),制备了不同SiO2含量的PI/SiO2杂化薄膜.采用FTIR、TMA、SEM以及TGA分析了PI/SiO2杂化薄膜的性能和结构.结果表明,TEOS经水解缩合与聚酰亚胺(PI)形成了有机-无机杂化网络结构,SiO2均匀分散在聚酰亚胺基体中;SiO2和偶联剂的引入提高了杂化薄膜的热稳定性;随着SiO2含量的增加,PI/SiO2杂化薄膜的拉伸强度降低,但当SiO2含量达到20%时,弹性模量增大到3.4GPa.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王晓东	南京工业大学材料化学工程国家重点实验室	100	885	18.0	23.0
2	黄培	南京工业大学材料化学工程国家重点实验室	138	1496	21.0	29.0
3	俞娟	南京工业大学材料化学工程国家重点实验室	44	155	7.0	10.0
4	蒋远媛	南京工业大学材料化学工程国家重点实验室	7	59	5.0	7.0
5	阙正波	南京工业大学材料化学工程国家重点实验室	7	94	5.0	7.0