立方氮化硼薄膜的最新研究进展

• 作者: 张健英 杨杭生 聂安民
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 化学
• 关键词: 立方氮化硼薄膜 压缩应力 异质外延 掺杂
• 年，卷（期）: 2009,（2）
• 所属期刊栏目: 前沿领域综述
• 页码范围: 1364-1370
• 页数: 7页
• 分类号: O6
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2009.02.112

摘要

立方氮化硼(cBN)作为一种在自然界中并不存在的人造材料具有优异的理化特性. 在超硬刀具、高温电子器件和光学保护膜等领域有着广泛的应用前景,已经成为材料科学的研究热点之一. 但是气相生长高质量cBN薄膜仍然还有许多难点需要攻克. 在综述近几年cBN薄膜研究所取得的一些突破性进展后,结合研究现状提出今后可能的主要研究方向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨杭生	浙江大学材料科学与工程学系	12	135	6.0	11.0
2	聂安民	浙江大学材料科学与工程学系	2	13	1.0	2.0
3	张健英	浙江大学材料科学与工程学系	1	13	1.0	1.0