原文服务方: 现代电子技术       
摘要:
分析影响VDMOS开关特性的各部分电容结构及参数,为了减少寄生电容,提高开关速度,在此提出一种减少VDMOS寄生电容的新型结构.该方法是部分去除传统VDMOS的neck区多晶硅条,并利用多晶硅作掩模注入P型区,改变VDMOS栅下耗尽区形状,减小寄生电容.在此增加了neck区宽度,并增加了P阱注入.利用TCAD工具模拟,结果表明:这种新型结构与传统VDMOS相比,能有效减小器件的寄生电容,减少橱电荷量,提高开关时间,提高器件的动态性能.
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文献信息
篇名 一种减少VDMOS寄生电容的新结构
来源期刊 现代电子技术 学科
关键词 VDMOS 电容 TCAD 开关时间
年,卷(期) 2009,(20) 所属期刊栏目 元器件与应用
研究方向 页码范围 200-202
页数 3页 分类号 TN710
字数 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-373X.2009.20.065
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 夏洋 中国科学院微电子研究所 67 325 9.0 14.0
2 郭丽莎 中国科学院微电子研究所 1 6 1.0 1.0
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研究主题发展历程
节点文献
VDMOS
电容
TCAD
开关时间
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
现代电子技术
半月刊
1004-373X
61-1224/TN
大16开
1977-01-01
chi
出版文献量(篇)
23937
总下载数(次)
0
总被引数(次)
135074
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