基片对交替溅射制备的MnZn铁氧体薄膜结构和磁性的影响

• 作者: 刘小晰 刘曦 张弘 曹江伟 王兰喜 魏福林
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: MnZn铁氧体 纳米晶 软磁性 磁性薄膜
• 年，卷（期）: 2009,（7）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 4970-4975
• 页数: 6页
• 分类号: O4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2009.07.093

摘要

使用成分分别为MnFe2O4和ZnFe2O4的靶,使用射频溅射交替沉积制备了成分不同的Mn1-xZnxFe2O4薄膜,沉积薄膜所用基片分别为单晶硅Si(100),氧化的单晶硅SiO2/Si(100), ZnFe2O4为衬底的单晶硅ZnFe2O4/Si(100)及单晶氧化镁MgO(100),沉积态的薄膜为非晶结构,经550℃真空退火后可以得到MnZn多晶铁氧体薄膜.成分为Mn0.5Zn0.5Fe2O4的薄膜呈现了较好的磁性:相对高的Ms及低的Hc.以MgO(100)为基片薄膜的矫顽力最低, 约为2148 A/m.对基片材料对薄膜磁性的影响作了分析.认为铁氧体薄膜中应力导致的磁弹性各向异性对薄膜的矫顽力起着主导作用,选用合适的基片可使薄膜中晶粒细化至纳米尺度,晶粒间增强的交换耦合作用可对薄膜中的磁弹性各向异性做有效平均并使其降低,从而使MnZn铁氧体薄膜的软磁特性得到改善.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘小晰	兰州大学磁性材料研究所	3	28	3.0	3.0
2	魏福林	兰州大学磁性材料研究所	27	223	7.0	14.0
3	张弘	兰州大学电子材料研究所	16	150	5.0	12.0
4	曹江伟	兰州大学磁性材料研究所	10	106	4.0	10.0
5	王兰喜	兰州大学磁性材料研究所	2	7	2.0	2.0
6	刘曦	兰州大学磁性材料研究所	2	6	2.0	2.0