氧压对飞秒激光沉积ZnO/Si(100)薄膜光学性能的影响

• 作者: 李玉华 杨义发 杨光 郑启光 陆培祥 龙华
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 氧化锌 飞秒脉冲激光沉积 透过率 光致发光
• 年，卷（期）: 2009,（4）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 2785-2791
• 页数: 7页
• 分类号: O4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2009.04.106

摘要

利用飞秒脉冲激光沉积法在n-Si(100)单晶衬底上制备了ZnO薄膜, 分析了衬底温度、激光能量、氧压及退火处理对薄膜结构和光学性能的影响. X射线衍射结果表明, 当激光能量为1.5 mJ、氧压为1.0 mPa时, 80 ℃生长的薄膜取向性最好. 场扫描电子显微镜结果显示薄膜的晶粒尺寸随激光能量的增加而减小、随衬底温度的升高而增大且退火后明显变大. 紫外-可见透射光谱显示薄膜具有90%以上的可见光透过率.光致发光谱表明当氧压为1.0 mPa时,除了ZnO的紫外本征峰外, 还有一波长为410 nm的强紫光峰, 当氧压增至2.0 mPa以上, 所有缺陷峰均消失, 只有376 nm处的紫外本征峰. 与纳秒激光法所制备的薄膜特性进行了比较, 结果表明, 虽然纳秒激光沉积所制备的薄膜具有更高的c轴取向度, 但飞秒激光沉积制备的薄膜具有更好的发光性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑启光	华中科技大学武汉光电国家实验室	32	305	10.0	15.0
2	陆培祥	华中科技大学武汉光电国家实验室	44	232	9.0	12.0
3	杨光	华中科技大学武汉光电国家实验室	50	460	11.0	20.0
4	李玉华	华中科技大学武汉光电国家实验室	40	353	11.0	17.0
5	龙华	华中科技大学武汉光电国家实验室	23	294	9.0	16.0
6	杨义发	华中科技大学武汉光电国家实验室	7	9	2.0	2.0