NiTi合金薄膜厚度对相变温度影响的X射线光电子能谱分析

• 作者: 刘常升 孟繁玲 李永华 王煜明 郑伟涛
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: NiTi合金薄膜 X射线衍射 相变 X射线光电子能谱
• 年，卷（期）: 2009,（4）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 2742-2745
• 页数: 4页
• 分类号: O4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2009.04.097

摘要

采用X射线衍射和X射线光电子能谱实验手段对不同厚度的NiTi薄膜相变温度的变化进行了分析.结果表明在相同衬底温度和退火条件下,3 μm厚度的薄膜晶化温度高于18 μm厚度的薄膜.衬底温度越高,薄膜越易晶化,退火后薄膜奥氏体相转变温度As越低.薄膜的表面有TiO2氧化层形成,氧化层阻止了Ni原子渗出;膜与基片的界面存在Ti2O3和NiO.由于表面和界面氧化层的存在,不同厚度的薄膜内层的厚度也不同,因而薄膜越薄,Ni原子的含量就越高.Ni原子的含量的不同会影响薄膜的相变温度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李永华	哈尔滨工程大学理学院水下智能机器人技术国防科技重点实验室	18	62	5.0	7.0
2	刘常升	东北大学材料与冶金学院	252	2803	27.0	39.0