沉积参数对SiNx薄膜结构及阻透性能的影响

• 作者: 丁万昱 张俊计 柴卫平 王华林 苗壮
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: SiNx 磁控溅射 微观结构 阻透性能
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:结构、热学和力学性质
• 页码范围: 432-437
• 页数: 6页
• 分类号: O3
• 字数: 4563字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2009.01.067

摘要

利用直流脉冲磁控溅射法在室温下制备无氢SiNx,薄膜.通过傅里叶变换红外光谱、台阶仪、紫外一可见分光光度计、接触角测量仪、透湿测试仪等表征技术,分析了N2流量、Si靶溅射功率等实验参数对SiNx薄膜成分、结构、及阻透性能、透光性能、接触角等性能的影响.研究结果表明,Si靶溅射功率固定时,在低N2流量条件下,或N2流量固定时,在高Si靶溅射功率条件下,制备的SiN,薄膜中Si-N键含量高,结构致密,薄膜对H2O的阻透性能优良,随着N2流量的增加或者Si靶溅射功率的降低,SiNx,薄膜成分、结构发生变化,红外光谱发生偏移,其对H2O的阻透性能下降.在N2流量为6 sccm,Si靶溅射功率为300 W时制备的SiN,薄膜在可见光波段透过率超过97.5%,对H2O的接触角为30,同时其对H2O的渗透系数最低,为0.764,综合性能满足柔性有机电致发光器件封装用阻透膜的要求,因此SiNx薄膜有望成为新一代柔性有机电致发光器件封装用阻透材料.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张俊计		11	69	4.0	8.0
5	王华林		8	25	3.0	4.0
9	苗壮		2	9	1.0	2.0
10	丁万昱		17	58	5.0	6.0