平面圆形磁控溅射靶枪的磁场分析

• 作者: 屈宝鹏 张喜凤
• 来源期刊: 现代电子技术
• 关键词: 磁控溅射 有限元 横向分量 磁通量密度
• 年，卷（期）: 2009,（13）
• 所属期刊栏目: 工控技术
• 页码范围: 202-203,207
• 页数: 3页
• 分类号: TB43
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-373X.2009.13.064

摘要

磁控溅射靶枪中磁通量密度的横向分布情况对靶材的利用率、沉积薄膜的质量及磁控溅射过程的稳定性等都有重大的影响.利用有限元理论对靶表面磁通量密度的横向分量进行了模拟分析.同时,也使用高斯计对靶表面磁场强度的横向分布进行了实际测量.比较得知,模拟结果和实际测量结果在很高的精度上是一致的.这个结果对于优化磁控溅射靶枪的设计及提高膜层的特性等方面都具有很高的实用价值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张喜凤		16	33	3.0	5.0
2	屈宝鹏		17	53	4.0	7.0