Ni-Mn-Ga铁磁性形状记忆薄膜研究进展

• 作者: 张敏刚 张真真 柴跃生 陈峰华
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: Ni-Mn-Ga薄膜 铁磁性 形状记忆效应 传感材料 相转变
• 年，卷（期）: 2010,（8）
• 页码范围: 480-483
• 分类号: TM271
• 字数: 3249字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2010.08.004

摘要

Ni-Mn-Ga合金兼有铁磁性和形状记忆效应,有望成为继压电陶瓷和磁致伸缩材料之后的新一代驱动与传感材料.但是由于合金脆性较大,难以切割,限制了其在微机电系统中的应用.系统阐述了薄膜的化学成分、组织结构、相转变、形状记忆效应及其影响因素,指出目前Ni-Mn-Ga合金薄膜研究中,各个元素对性能影响的探索存在不足,制备出的薄膜主要存在磁性能、磁致应变量偏低以及磁致形状记忆效应不可逆等缺点.可以通过调整薄膜化学成分、热处理工艺、膜厚或者元素替换来提高薄膜的性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	柴跃生		74	261	7.0	12.0
2	张敏刚		103	263	7.0	11.0
3	陈峰华		25	62	3.0	7.0
4	张真真		3	3	1.0	1.0