Al2O3过渡层厚度对AZO薄膜性能的影响研究

• 作者: 杨超 江丰 沈鸿烈 罗军 鲁林峰
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: AZO Al2O3过渡层 磁控溅射 电阻率 透射率
• 年，卷（期）: 2010,（12）
• 页码范围: 1-4
• 分类号: TB332
• 字数: 2984字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2010.12.001

摘要

采用磁控溅射法,在预先沉积了Al2O3过渡层的玻璃衬底上制备了性能优良的AZO薄膜.借助XRD、AFM、四探针仪和分光光度计对AZO薄膜的结构、表面形貌以及电学和光学性质进行了表征,并研究了Al2O3过渡层厚度对AZO薄膜性能的影响.结果表明:Al2O3过渡层的添加对AZO薄膜的表面形貌有一定影响;AZO薄膜的结晶质量随着过渡层厚度的增加先上升后下降;AZO薄膜的电阻率因过渡层的添加而明显降低,特别是在AZO薄膜较薄时;在添加了1～3nm厚的过渡层后,160nm厚的AZO薄膜的电阻率下降了44%左右;AZO薄膜的可见光透射率和光学带隙基本不受过渡层影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨超	南京航空航天大学材料科学与技术学院	17	74	5.0	8.0
2	沈鸿烈	南京航空航天大学材料科学与技术学院	93	264	9.0	10.0
3	江丰	南京航空航天大学材料科学与技术学院	17	57	5.0	6.0
4	鲁林峰	南京航空航天大学材料科学与技术学院	14	62	6.0	7.0
5	罗军	南京航空航天大学材料科学与技术学院	1	1	1.0	1.0