Ni在Ni(100)面的薄膜生长的蒙特卡罗模拟

• 作者: 冯倩 曾令军 蒋丽钦 钟克华 黄志高
• 来源期刊: 福建师范大学学报(自然科学版)
• 学科: 物理学
• 关键词: 蒙特卡罗模拟 薄膜生长 表面粗糙度 沉积速率
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 页码范围: 59-63
• 页数: 5页
• 分类号: O484.1
• 字数: 3160字
• 语种: 中文

摘要

采用晶格动力学蒙特卡罗(KLMC)方法模拟Ni在Ni(100)面的薄膜生长,对原子的沉积、吸附、扩散、成核、生长等微观过程采用了合理的模型,研究基板温度和沉积速率对薄膜的生长形貌和表面粗糙度的影响.模拟结果表明:沉积在基板上的原子逐步由各个离散型变成紧致型的近四方形的岛,并由二维向三维岛转变,最后连接成膜;基板温度越高,沉积速率越低,生成的薄膜越平整,粗糙度越小;沉积速率一定,表面粗糙度随着基板温度的增加而减小,当基板温度达到一定值时粗糙度降为零.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄志高	福建师范大学物理与光电信息科技学院	108	292	9.0	13.0
2	蒋丽钦	福建师范大学物理与光电信息科技学院	13	11	2.0	2.0
3	冯倩	福建师范大学物理与光电信息科技学院	21	67	6.0	7.0
4	钟克华	福建师范大学物理与光电信息科技学院	12	21	2.0	4.0
5	曾令军	福建师范大学物理与光电信息科技学院	1	2	1.0	1.0