溅射辅助微波等离子体化学气相沉积SiCN晶体

• 作者: 万军 吴振辉 曹宏 汪建华 马志斌
• 来源期刊: 新型炭材料
• 学科: 物理学
• 关键词: SiCN晶体 微波等离子体 溅射 二氰二氨
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 48-52
• 页数: 5页
• 分类号: O484.1
• 字数: 3132字
• 语种: 中文

摘要

在微波等离子体化学气相沉积系统中,利用脉冲氮离子束溅射二氰二氨靶产生的碳氮粒子作为合成前驱物,在石英玻璃基片上研究了SiCN晶体的合成.用扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱(EDX)、X射线衍射(XRD)和X射线光电子能谱(XPS)研究了基片温度对薄膜的形貌、成分和结构的影响.结果表明:随着基片温度的降低,沉积物由截面为六方形的结晶良好的SiCN晶体(800℃)变成发育不完全的聚片状晶体(700℃),直到变成颗粒细小的无定形碳氮薄膜(550℃).衍射峰的强度以及晶胞参数a和c的值随温度的降低而减小.薄膜为C原子部分取代Si_3N_4中的Si原子位置而形成的SiCN晶体,其中N原子主要与Si原子结合,C原子以sp~3C-N、sp~2C=N和sp~2C=C键的形式存在.降低基片温度有利于提高薄膜中的C含量和sp~3C-N键的含量.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	曹宏	武汉工程大学材料科学与工程学院湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	74	348	11.0	14.0
2	马志斌	武汉工程大学材料科学与工程学院湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	58	189	7.0	10.0
3	吴振辉	武汉工程大学材料科学与工程学院湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	6	23	3.0	4.0
4	万军	武汉工程大学材料科学与工程学院湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	2	10	2.0	2.0