一种可溯源的光谱椭偏仪标定方法

• 作者: 张继涛 李岩 罗志勇
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 光谱椭偏术 X射线反射术 膜厚 标定
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 所属期刊栏目: 总论
• 页码范围: 186-191
• 页数: 6页
• 分类号: O4
• 语种: 中文

摘要

提出了一种用X射线反射术标定光谱椭偏仪的方法.作为一种间接测量方法,光谱椭偏术测得的薄膜厚度依赖于其光学常数,不具有可溯源性.在掠入射条件下,x射线反射术能测得薄膜的物理厚度,测量结果具有亚纳米量级的精密度且与薄膜光学常数无关.在单晶硅基底上制备了厚度分别为2 nm,18 nm,34 nm,61 nm及170 nm的SiO_2薄膜标样,并用强制过零点的直线拟合了两种方法的标样测量结果,拟合直线的斜率为1.013±0.013,表明该方法可在薄膜厚度测量中标定光谱椭偏仪.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	罗志勇		35	216	8.0	13.0