电子束蒸发制备PbI2膜及其光学性能研究

• 作者: 孙辉 朱兴华 李乐中 杨军 杨定宇 高秀英 魏昭荣
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: PbI2膜 衬底温度 紫外-可见透过谱 吸收系数 光学带隙
• 年，卷（期）: 2010,（4）
• 页码范围: 1019-1024
• 分类号: TN304.2
• 字数: 3095字
• 语种: 中文

摘要

采用电子束蒸发法制备PbI2膜,研究不同工艺参数对制备样品光学性质的影响.结果表明,制备样品属于六方相多晶结构,随衬底温度的升高,样品中的I元素含量降低并趋于理想化学配比.随着衬底温度的升高,PbI2膜的光谱透过性能逐渐改善,吸收边沿低能一侧的拖尾逐步消除,源自样品结晶质量的提高.根据紫外-可见透过谱,计算了不同条件下制备样品的厚度、折射率、吸收系数和光学带隙.结果发现,随衬底温度的升高,制备样品的折射率和光学带隙出现波动变化,但吸收系数单调增大.在相同的衬底温度下,35 cm的源-衬间距下制备的样品具有最大的光吸收系数,归因于该系列样品较高的致密度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱兴华	成都信息工程学院光电技术学院	32	98	6.0	7.0
2	杨定宇	成都信息工程学院光电技术学院	39	148	6.0	9.0
3	孙辉	成都信息工程学院光电技术学院	12	34	3.0	5.0
4	李乐中	成都信息工程学院光电技术学院	23	48	4.0	6.0
5	杨军	成都信息工程学院光电技术学院	15	56	5.0	7.0
6	高秀英	成都信息工程学院光电技术学院	9	19	2.0	4.0
7	魏昭荣	成都信息工程学院光电技术学院	16	39	3.0	5.0