TiN细化剂对K4169高温合金组织的影响

• 作者: 张勇 曹腊梅 李爱兰 李相辉 谷怀鹏
• 来源期刊: 铸造
• 学科: 工学
• 关键词: TiN 细化剂 组织 错配度
• 年，卷（期）: 2010,（12）
• 页码范围: 1290-1292
• 分类号: TG132.32
• 字数: 2251字
• 语种: 中文

摘要

研究了TiN细化剂的组织形貌,细化剂与K4169合金基体的点阵匹配关系以及合金细化后的显微组织.结果表明:TiN细化剂与K4169合金基体的点阵常数分别为0.418 7nm和0.3849nm,两者的错配度为8.78%.在一定工艺参数条件下,K4169合金添加细化剂后,宏观晶粒尺寸显著减小,枝晶间距减小,Laves相和碳化物尺寸变小,且分布更均匀.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张勇	北京航空材料研究院先进高温结构材料国防科技重点实验室	39	372	9.0	18.0
2	李相辉	北京航空材料研究院先进高温结构材料国防科技重点实验室	14	55	4.0	6.0
3	曹腊梅	北京航空材料研究院先进高温结构材料国防科技重点实验室	38	583	11.0	23.0
4	李爱兰	北京航空材料研究院先进高温结构材料国防科技重点实验室	24	419	10.0	20.0
5	谷怀鹏	北京航空材料研究院先进高温结构材料国防科技重点实验室	12	47	5.0	6.0