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适应光盘刻录模式的光存储材料成膜应用技术研究
适应光盘刻录模式的光存储材料成膜应用技术研究
作者:
宋君
范海龙
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
光存储材料
光盘刻录
倍速
成膜工艺
产品设计
刻录速度
盘片
应用技术
内圈
刻录盘
摘要:
本文主要通过可录类光盘生产及产品设计中不同的光盘刻录模式和不同的成膜工艺间的关系揭示成膜工艺的一般规律。
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光存储技术与光盘刻录
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篇名
适应光盘刻录模式的光存储材料成膜应用技术研究
来源期刊
记录媒体技术
学科
工学
关键词
光存储材料
光盘刻录
倍速
成膜工艺
产品设计
刻录速度
盘片
应用技术
内圈
刻录盘
年,卷(期)
2010,(1)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
37-39
页数
3页
分类号
TP333.4
字数
语种
DOI
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引文网络
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2010(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
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研究主题发展历程
节点文献
光存储材料
光盘刻录
倍速
成膜工艺
产品设计
刻录速度
盘片
应用技术
内圈
刻录盘
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
记录媒体技术
主办单位:
清华大学光盘国家工程研究中心
出版周期:
双月刊
ISSN:
1672-1268
CN:
11-4992/TP
开本:
大16开
出版地:
北京清华大学华业大厦1409
邮发代号:
创刊时间:
2003
语种:
chi
出版文献量(篇)
1075
总下载数(次)
3
总被引数(次)
606
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