镀Ni硅酸钙镁晶须对屏蔽涂料电磁性能的影响

• 作者: 卢长寿 孙传敏 林金辉 王自友 管登高
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: 电磁屏蔽涂料 屏蔽效能 化学镀镍 矿物材料 硅酸钙镁晶须
• 年，卷（期）: 2010,（7）
• 所属期刊栏目: 研究与试测
• 页码范围: 8-11
• 分类号: TN04|TB333|TM242
• 字数: 3896字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2010.07.003

摘要

为了改善硅酸钙镁晶须的电磁性能,先用化学镀技术制备镀Ni硅酸钙镁晶须,将其与镍粉复合,制备了一种新型电磁波屏蔽涂料,并研究其电磁性能.结果表明:镀Ni硅酸钙镁晶须中Ni的质量分数为7.28%;其结构和形貌与镀前相比没有明显改变;屏蔽涂料中镀Ni硅酸钙镁晶须的最佳质量分数为4%,当涂层厚度为0.3 mm时,涂层的电阻率由2.40 Ω·cm降至1.43 Ω·cm;在0.3～1 000.0 MHz时,涂层的电磁屏蔽效能提高至35.082～41.924 dB.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林金辉	成都理工大学材料与化学化工学院	117	1392	20.0	31.0
2	孙传敏	成都理工大学地球科学学院	112	967	16.0	23.0
3	管登高	成都理工大学材料与化学化工学院	28	184	8.0	12.0
7	王自友	成都理工大学地球科学学院	4	18	3.0	4.0
8	卢长寿	成都理工大学地球科学学院	3	12	3.0	3.0