在线等离子清洗技术的应用

• 作者: 余超平 杨明生 王曼媛 赖绍强 赵伟明
• 来源期刊: 记录媒体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 等离子清洗 玻璃基片 等离子处理 二次污染 密封腔 有机污染物 真空腔 氧化铟锡 大气环境 clea
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 页码范围: 43-45
• 页数: 3页
• 分类号: TN405

摘要

等离子清洗处理能有效清除氧化铟锡(ITO)玻璃表面的有机污染物,活化表面,增加玻璃表面附着力。而在线等离子清洗(in-line plasma cleaning)是在连续生产线的一个密封腔中对ITO玻璃进行的等离子处理,可以避免玻璃基片暴露在大气环境中而造成二次污染。本文主要阐述了等离子清洗在ITO玻璃清洗上发挥的重要作用和一种在OLED行业实现在线等离子清洗的设备。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵伟明		4	26	3.0	4.0
2	杨明生		5	10	1.0	3.0
3	赖绍强		1	0	0.0	0.0
4	余超平		1	0	0.0	0.0
5	王曼媛		1	0	0.0	0.0