nc-Si:(Al2O3+SiO2)复合膜的制备及其热电特性

• 作者: 刘晓静 刘立慧 孙杰 张君善 权乃承 苗锟 郝培风 高斐
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 热电薄膜 nc-Si:(Al2O3+SiO2)复合膜 热蒸发 Seebeck系数
• 年，卷（期）: 2010,（6）
• 页码范围: 1465-1469
• 分类号: O472+.7
• 字数: 2750字
• 语种: 中文

摘要

采用真空热蒸发技术在石英玻璃衬底上蒸镀约400 nm的铝膜,并在空气中580 ℃的条件下退火1 h.在退火过程中Al与石英中的SiO2反应形成纳米硅nc-Si: (Al2O3+SiO2)复合膜.利用X射线衍射(XRD)、拉曼散射(Raman)及扫描电镜(SEM)等方法研究了薄膜的结构特性.测得膜厚约为760 nm,估算出薄膜中纳米硅(nc-Si)的平均尺寸约为25 nm.实验发现该nc-Si: (Al2O3+SiO2)复合膜有热电特性,研究了其电阻率及Seebeck系数随温度(293 ～413 K)的变化关系,在293 K和413 K该薄膜的Seebeck系数分别约为-624 μV/K和-225 μV/K.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高斐	陕西师范大学物理与信息技术学院	26	39	3.0	5.0
2	刘晓静	陕西师范大学物理与信息技术学院	14	23	2.0	4.0
3	孙杰	陕西师范大学物理与信息技术学院	11	24	2.0	4.0
4	权乃承	陕西师范大学物理与信息技术学院	7	21	2.0	4.0
5	郝培风	陕西师范大学物理与信息技术学院	5	19	2.0	4.0
6	刘立慧	陕西师范大学物理与信息技术学院	5	19	2.0	4.0
7	苗锟	陕西师范大学物理与信息技术学院	3	14	1.0	3.0