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光诱导MOCVD(Photo-MOCVD)技术的发展
光诱导MOCVD(Photo-MOCVD)技术的发展
作者:
严碧惠
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
光诱导
MOCVD
光源
摘要:
MOCVD是一种生长或外延薄膜的技术.将光引入外延过程,利用光的量子性,使反应的物理和化学过程得到促进,进而发展了一种新的化合物半导体薄膜制备技术,即光诱导MOCVD技术.本文综合分析了该技术的基本原理、实验装置、光源的分类和选择及该技术的实践应用,介绍了反应室结构的开发设计及光源的新进展.
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文献信息
篇名
光诱导MOCVD(Photo-MOCVD)技术的发展
来源期刊
福建广播电视大学学报
学科
工学
关键词
光诱导
MOCVD
光源
年,卷(期)
2010,(3)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
88-91
页数
4页
分类号
TN929.1
字数
语种
中文
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光诱导
MOCVD
光源
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
福建广播电视大学学报
主办单位:
福建广播电视大学
出版周期:
双月刊
ISSN:
1008-7346
CN:
35-1200/G4
开本:
大16开
出版地:
福州市铜盘路15号
邮发代号:
创刊时间:
1993
语种:
chi
出版文献量(篇)
2542
总下载数(次)
2
总被引数(次)
3821
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