退火对Y_2O_3薄膜结构和光学性能的影响

• 作者: 吕反修 李成明 王耀华 贺琦 陈广超
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: ESAVD 氧化钇薄膜 折射系数
• 年，卷（期）: 2010,（2）
• 所属期刊栏目: 表面工程
• 页码范围: 47-51
• 页数: 5页
• 分类号: TB43
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.2010.02.012

摘要

采用脉冲式静电辅助的气溶胶化学气相沉积方法成功的在Si(100)衬底上制备了Y_2O_3薄膜,研究了退火对Y_2O_3沉积薄膜的形貌、结构和光学性质的影响.X射线衍射分析结果表明沉积得到的Y_2O_3薄膜在退火前为非晶态结构,退火之后薄膜具有立方结构,并且具有(111)择优取向.SEM分析显示薄膜在退火后更加平滑、致密.椭偏仪的测试结果表明薄膜退火后的折射系数提高,消光系数减少.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕反修	北京科技大学材料科学与工程学院	151	1208	18.0	24.0
2	贺琦	北京科技大学材料科学与工程学院	11	87	5.0	9.0
3	陈广超	北京科技大学材料科学与工程学院	27	235	9.0	14.0
4	李成明	北京科技大学材料科学与工程学院	71	480	12.0	19.0
5	王耀华		7	24	4.0	4.0