Nb+C离子注入磁过滤真空电弧镀TiAlN薄膜研究

• 作者: 刘红亮 胡智杰 陶冶
• 来源期刊: 物理测试
• 学科: 工学
• 关键词: 离子注入 TiAlN薄膜 非晶 纳米晶
• 年，卷（期）: 2010,（2）
• 所属期刊栏目: 实验研究
• 页码范围: 40-43
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.4
• 字数: 2430字
• 语种: 中文

摘要

利用MeVVA离子源技术对阴极磁过滤真空弧沉积的TiAlN薄膜进行了不同注入剂量的Nb及Nb+C离子注入.采用EDS、TEM、GIXRD、显微硬度等测试方法研究了离子注入剂晕对于薄膜微观结构和性能的影响.结果表明,注入剂量为Nb 5×1017 ions/cm2+C5×1017 ions/cm2时,Nb在TiAlN薄膜内的注入投影射程为130nm;在薄膜表层形成厚度约50nm的非晶与纳米晶的复合结构;在次表层,晶粒发生局部扭曲变形.随着离子注入剂量的增加,薄膜与基底的复合硬度由HV 1900增加到HV 3000,在高剂量离子注入条件下,薄膜的硬度提升更为显著.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陶冶	北京航空航天大学材料科学与工程学院	29	341	11.0	17.0
2	刘红亮	北京航空航天大学材料科学与工程学院	3	8	2.0	2.0
3	胡智杰	北京航空航天大学材料科学与工程学院	3	7	2.0	2.0