TiB2/Si3N4纳米多层膜的制备及其结构和性能分析

• 作者: 刘孟寅 刘广庆 孙延东 李德军 董磊 龚杰
• 来源期刊: 天津师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 离子束辅助沉积 TiB2/Si3N4纳米多层膜 调制比 硬度
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 页码范围: 29-32
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.444
• 字数: 3113字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-1114.2010.01.008

摘要

利用超高真空离子束辅助沉积(IBAD)系统,在225℃条件下,制备一系列TiB2/Si3N4纳米多层膜,通过X射线衍射(XRD)仪、表面轮廓仪、原子力显微镜(AFM)和纳米力学测试系统分析该体系合成中调制比对多层膜结构和机械性能的影响.结果表明:一定条件下制备的多层膜其纳米硬度值高于两种个体材料混合相的硬度值;当调制比为15:1,调制周期为(13±1)nm时,结晶出现多元化,多层膜体系的硬度、应力、弹性模量和膜基结合性能均达到最佳.多层膜机械性能的明显改善与其多层结构和多晶结构存在直接联系.实验证明通过选择合适的个体层材料、厚度以及调制比等条件,制备具有高硬度、低应力和良好膜基结合力的纳米多层膜是可以实现的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李德军	天津师范大学物理与电子信息学院	73	242	7.0	11.0
2	孙延东	天津师范大学物理与电子信息学院	3	7	2.0	2.0
3	董磊	天津师范大学物理与电子信息学院	17	30	3.0	4.0
4	刘孟寅	天津师范大学物理与电子信息学院	5	13	3.0	3.0
5	刘广庆	天津师范大学物理与电子信息学院	4	8	2.0	2.0
6	龚杰	天津师范大学物理与电子信息学院	3	10	2.0	3.0