表面等离子体近场光刻制作二维纳米阵列

• 作者: 张宝顺 张晓东 曾春红 李海军 林文魁 王敏锐 王逸群 赵德胜
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 表面等离子体 近场光刻 纳米孔阵列 二维纳米阵列 金膜
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 所属期刊栏目: 显微、测量、微细加工技术与设备
• 页码范围: 60-63
• 分类号: O436
• 字数: 2057字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2010.01.013

摘要

重点介绍了采用表面等离子体增强效应的近场光刻制作亚微米结构的二维点阵图形的技术.在研究亚波长纳米孔阵列超透射现象基本原理的基础上,应用有限差分时域(FDTD)算法数值模拟了周期性孔阵列的电场强度分布,讨论了纳米孔阵列所激发的表面等离子体激元提高近场光刻分辨率的微观机制.以金膜上的亚波长纳米孔阵列作为掩模版进行了接触式曝光实验,实际制作出了光刻胶的亚波长二维点阵图形,点阵图形的直径约为300 nm,周期约为700 nm.这种新型的微纳加工技术具有应用简单、成本低等特点,在大规模二维纳米点阵的制作方面有一定的应用潜力.