氟化类金刚石薄膜介电性能研究

• 作者: 梁业广 王德安 肖剑荣
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 氟化类金刚石薄膜 离子体增强化学气相沉积 绝缘电阻 介电常数
• 年，卷（期）: 2010,（5）
• 页码范围: 49-52
• 分类号: TN304
• 字数: 3517字
• 语种: 中文

摘要

采用射频等离子体增强化学气相沉积法制备了氟化类金刚石薄膜.利用俄歇电子能谱、绝缘电阻测试仪、耐压测试仪和QS电桥对样品组分和介电性能进行了表征、分析.结果表明:薄膜的介电常数εr在2.07～2.65之间,绝缘电阻在245 MΩ左右,击穿场强在2.1 MV/cm以上,它们与膜内F的含量密切相关.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王德安	桂林理工大学理学院	6	2	1.0	1.0
2	梁业广	桂林理工大学理学院	7	15	2.0	3.0
3	肖剑荣	桂林理工大学理学院	30	37	4.0	4.0