AAO模板合成法制备金属Ni磁性纳米线阵列的研究

• 作者: 严彪 安建军 李同 王华钰 董鹏
• 来源期刊: 上海金属
• 学科: 工学
• 关键词: Ni纳米线 电化学沉积 AAO模板 磁性能
• 年，卷（期）: 2010,（5）
• 页码范围: 17-20
• 分类号: TG1
• 字数: 2279字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-7208.2010.05.004

摘要

利用电化学沉积法,在AAO模板上制备了铁磁性金属Ni纳米线有序阵列.通过XRD、SEM等分析测试方法研究了制备工艺与Ni纳米线结构的关系,并在此基础上研究了结构对其磁性能的影响.在恒定沉积电压为-2 V时,适当的电流密度(2 mA/cm2)以及较长的沉积时间(9 h),有助于得到沿着[220]方向的高织构性纳米线.另外,相对于多晶结构,单晶或高织构性结构的Ni纳米线具有较高的矫顽力、剩磁及更显著的磁各向异性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	严彪	同济大学材料科学与工程学院上海市金属功能材料重点实验室	165	1263	19.0	29.0
2	王华钰	同济大学材料科学与工程学院上海市金属功能材料重点实验室	5	39	4.0	5.0
3	安建军	同济大学材料科学与工程学院上海市金属功能材料重点实验室	2	7	1.0	2.0
4	董鹏	同济大学材料科学与工程学院上海市金属功能材料重点实验室	9	35	4.0	5.0
5	李同	同济大学材料科学与工程学院上海市金属功能材料重点实验室	1	6	1.0	1.0