176Hf(n,2n)175Hf反应截面测量

• 作者: 何铁 朱传新 牟云峰 郑普 郭海萍 阳剑
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: Hf 反应截面 相对测量
• 年，卷（期）: 2010,（z1）
• 页码范围: 7-11
• 分类号: O571.435
• 语种: 中文

摘要

采用相对测量技术,以活化法对13.4～14.8 Mev范围内的176Hf(n,2n)175Hf反应截面进行了测量.样品固定在距离D-T中子源20cm处的圆环的不同位置上进行中子辐照,采用93Nb(n,2n)92Nbm作为监测反应,活化产物采用高纯锗探测器进行了测量,所得14 MeV附近的176Hf(n,2n)175Hf反应截面实验值为(2 100±85)mb,对实验结果与公开文献值和ENDF/B6.8评价库数据进行了比对.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑普		25	52	4.0	6.0
2	阳剑		10	11	2.0	2.0
3	朱传新		25	59	4.0	7.0
4	郭海萍		23	78	5.0	7.0
5	牟云峰		23	76	4.0	7.0
6	何铁		14	29	3.0	4.0