铜-钨(钼)薄膜制备及应用的研究进展

• 作者: 曾莹莹 艾永平
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 铜-钨(钼)薄膜 溅射 热控制
• 年，卷（期）: 2010,（3）
• 页码范围: 90-93
• 分类号: TG174.44|TB43
• 字数: 3894字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2010.03.026

摘要

介绍了近年来铜-钨(钼)薄膜涂层的制备方法.包括溅射沉积法、离子束辅助沉积法、离子束混合法、电子束蒸发法.重点介绍了溅射法中的磁控溅射法和离子束溅射沉积法,分析了薄膜的结构特征及其在固体润滑剂、电子设备、表面修饰材料等领域的应用,并展望了未来的研究方向和应用前景,指出制备散热材料是未来铜一钨(钼)薄膜研究的主流方向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	艾永平		22	51	4.0	6.0
2	曾莹莹		16	46	5.0	5.0