微透镜列阵成像光刻调焦方法

• 作者: 张为国 杜春雷 董小春
• 来源期刊: 光电工程
• 学科: 物理学
• 关键词: 微纳光学 成像光刻 微透镜列阵 离焦
• 年，卷（期）: 2010,（3）
• 所属期刊栏目: 微光学
• 页码范围: 39-43
• 分类号: O439
• 字数: 2588字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-501X.2010.03.008

摘要

本文分析了离焦量对微透镜列阵成像光刻图形质量的影响,给出了系统离焦量的容差.同时提出了一种结构简单、可应用于微透镜列阵成像光刻系统调焦的新方法.并将基于该调焦方法的实验装置应用于微透镜列阵成像光刻系统,进行了光刻实验.实验表明,利用该方法时微透镜列阵成像光刻系统调焦,可得到接近微透镜列阵极限像质的光刻图形.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杜春雷	中国科学院光电技术研究所	72	596	14.0	18.0
2	董小春	中国科学院光电技术研究所	20	154	8.0	11.0
3	张为国	中国科学院光电技术研究所	6	18	3.0	4.0