基于DILL模型的SU8厚胶曝光仿真

• 作者: 刘刚 刘韧 周洪军 沈连婠 田扬超 郑津津
• 来源期刊: 光电工程
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻模拟 SU8胶 厚胶轮廓 曝光模型
• 年，卷（期）: 2010,（2）
• 所属期刊栏目: 微光学
• 页码范围: 32-39
• 页数: 8页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 5109字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-501X.2010.02.006

摘要

基于DILL经典曝光模型,对其分别在深度轴和时间轴上进行扩展:在深度轴上,以基尔霍夫衍射公式为基础,引入复折射率,利用光束传输法的思想计算了某曝光时刻下胶体内部的光场分布;在时间轴上,分析SU8光刻胶的特点及曝光反应过程,建立合适的光交联反应动力学模型,计算不同曝光时刻下的光场分布,通过整个曝光模型的建立,最终给出一定曝光时间后的光场分布;结果表明,在曝光阶段,胶内深层光场整体分布随时间变化不大,曝光时间对曝光阶段光场分布的影响较小,这种影响将在后烘阶段得以放大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑津津	中国科学技术大学精密机械与精密仪器系	56	224	8.0	11.0
2	沈连婠	中国科学技术大学精密机械与精密仪器系	63	319	7.0	12.0
3	周洪军		6	29	4.0	5.0
4	刘韧	中国科学技术大学精密机械与精密仪器系	4	36	2.0	4.0
5	田扬超		4	15	3.0	3.0
6	刘刚		5	22	3.0	4.0