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摘要:
电波新闻的报道,全球最大的显示器相关学会“48th SID International Symposium, Seminar & Exhibition (Display Week 2010)'(SID2010)于2010年5月23日(当地时间)在美国西雅图开幕。开幕当天23日举办了简短讲座。24日召开商务会议,25~28日则举办研讨会及展会(其中展会截止到27日14时)。
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半导体材料在光催化低浓度氮氧化物的研究进展
半导体材料
光催化
低浓度
氮氧化物
0.5μm栅长HfO2栅介质的GaN金属氧化物半导体高电子迁移率晶体管
高电子迁移率晶体管
氮化镓
栅电流
射频特性
稀土氧化物掺杂碳纳米管屏蔽纸
稀土氧化物
碳纳米管
屏蔽纸
电磁屏蔽
屏蔽效能
围栅金属氧化物半导体场效应管电流模型
围栅
载流子
表面势
漏电流
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
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文献信息
篇名 SID 2010开幕,“3D”“电子纸”“氧化物半导体”倍受关注
来源期刊 显示器件技术 学科 工学
关键词 氧化物半导体 SID 电子纸 3D 商务会议 显示器 西雅图 展会
年,卷(期) 2010,(2) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 55
页数 1页 分类号 TN304.21
字数 语种
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五维指标
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2010(0)
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研究主题发展历程
节点文献
氧化物半导体
SID
电子纸
3D
商务会议
显示器
西雅图
展会
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
显示器件技术
季刊
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1151
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