基于TMAH溶液的PN结自停止腐蚀的研究

• 作者: 李俊伍 秦明 顾慧 黄见秋
• 来源期刊: 电子器件
• 学科: 工学
• 关键词: 四甲基氢氧化铵 自停止腐蚀 Al钝化
• 年，卷（期）: 2010,（3）
• 页码范围: 262-265
• 分类号: TN305.2
• 字数: 2198字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-9490.2010.03.003

摘要

MEMS器件的性能与尺寸密切相关.介绍了一种精确控制器件尺寸的各向异性腐蚀方法--基于改进TMAH溶液的PN结自停止腐蚀.这种方法几乎不刻蚀铝,从而与CMOS工艺良好地兼容.应用这种办法正面腐蚀,成功释放结构,尺寸与设计比较符合,证明了这种方法的可行性及易操作性.