Ti/BDD涂层电极的制备及其电化学性能研究

• 作者: 卢文壮 左敦稳 徐锋 陈兴峰
• 来源期刊: 硅酸盐通报
• 学科: 地球科学
• 关键词: Ti/BDD涂层电极 衬底温度 碳源浓度 电化学性能
• 年，卷（期）: 2010,（4）
• 页码范围: 961-966
• 分类号: TB43|X703
• 字数: 3932字
• 语种: 中文

摘要

本文在热丝化学气相沉积(HFCVD)系统上,采用不同的工艺参数进行了钛衬底掺硼金刚石(Ti/BDD)涂层电极的制备试验,研究了衬底温度和碳源浓度对Ti/BDD涂层电极质量的影响,优化了制备Ti/BDD涂层电极的工艺条件.结果表明,沉积Ti/BDD涂层电极最合适的衬底温度为770 ℃,最适宜的C/H为2.0%.采用循环伏安法研究了用优化的工艺参数制备的Ti/BDD涂层电极的电化学性能,结果表明Ti/BDD涂层电势窗口宽、析氧电位高、背景电流小,是一种有广阔应用前景的电极材料.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	卢文壮	南京航空航天大学机电学院	94	520	12.0	17.0
2	左敦稳	南京航空航天大学机电学院	510	3780	26.0	32.0
3	徐锋	南京航空航天大学机电学院	85	541	13.0	18.0
4	陈兴峰	南京航空航天大学机电学院	2	21	2.0	2.0