壳聚糖/SiO2杂化膜制备及其对铜离子吸附性能的研究

• 作者: 何雪梅 许涛 谢孔良
• 来源期刊: 天津工业大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 壳聚糖 杂化膜 吸附性能 铜离子
• 年，卷（期）: 2010,（5）
• 页码范围: 10-14
• 分类号: TS102.54
• 字数: 3635字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-024X.2010.05.003

摘要

用硅偶联剂氨丙基三乙氧基硅烷(KH550)作为前躯体和交联剂,与壳聚糖通过溶胶-凝胶反应制备了壳聚糖/SiO2纳米杂化膜.用红外光谱对杂化膜进行表征,并研究杂化膜的溶胀性能、耐酸性能及不同的因素对杂化膜吸附重金属铜离子性能的影响.结果表明:红外光谱图显示杂化膜内有新键产生,引入了Si-O-Si结构.壳聚糖/SiO2纳米杂化膜溶胀性能降低,耐酸性能提高,吸附铜离子性能提高.当壳聚糖/SiO2纳米杂化膜中SiO2的质量分数为6.8%时杂化膜吸附铜离子性能最好.室温下溶液pH值为5、铜离子浓度为0.05 mol/L、时间为60 min时,杂化膜CSHl对铜离子有较好的吸附效果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	谢孔良	东华大学现代纺织研究院	69	398	11.0	18.0
2	何雪梅	东华大学现代纺织研究院	42	131	6.0	9.0
6	许涛	盐城工学院纺织服装学院	1	12	1.0	1.0