浅谈光刻胶

• 作者: 王怡臻
• 来源期刊: 记录媒体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻胶 介质表面 亚微米级 线路结构 微刻 高分辨率 摩尔定律 光刻技术 光刻机 光致抗蚀剂
• 年，卷（期）: 2010,（2）
• 页码范围: 40-42
• 页数: 3页
• 分类号: TN405

摘要

近几十年间,微电子技术得到了迅猛的发展。根据摩尔定律,集成电路的集成度每隔两年翻一番。制作当今集成电路高分辨率线路元件的核心技术就是微刻技术,而其中的光刻术用于制造目前几乎所有商业元件,光刻胶为在介质表面构造精细的微米或亚微米级线路结构又起到了非常重要的作用。这篇文章将对光刻胶做一个简要介绍,并对当前的市场情况做一个简短概括。

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1	王怡臻		1	0	0.0	0.0