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摘要:
近场光存储技术因其高分辨率、超出传统光学衍射极限的限制等特点成为实现下一代高密度光存储的关键解决方案之一.目前应用的主要瓶颈是其光源较低的透过强度难以达到实际应用的要求.文章利用金属表面的周期性结构激发表面等离子体激元来提高亚波长纳米孔的透过率的解决途径.实验中制作了两种周围带有表面周期结构的纳米微孔,并对小孔周围光栅状结构的形状对纳米孔透过强度的影响进行了讨论.在此基础上提出了将纳米孔应用于高密度存储领域的设想.
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文献信息
篇名 应用于高密度近场光存储技术的亚波长纳米孔
来源期刊 半导体光电 学科 物理学
关键词 近场光学 表面等离子体 亚波长纳米孔 透过率
年,卷(期) 2010,(3) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 418-421
页数 分类号 O43
字数 语种 中文
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研究主题发展历程
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近场光学
表面等离子体
亚波长纳米孔
透过率
研究起点
研究来源
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相关学者/机构
期刊影响力
半导体光电
双月刊
1001-5868
50-1092/TN
大16开
重庆市南坪花园路14号44所内
1976
chi
出版文献量(篇)
4307
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22
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