溅射沉积TiO2薄膜结构及性能的基础研究

• 作者: 侯兴刚 吉亚萍 张琳琳 李鹏 黄美东
• 来源期刊: 天津师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 TiO2薄膜 退火
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 页码范围: 33-36
• 页数: 4页
• 分类号: TB79|O43
• 字数: 2440字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-1114.2010.01.009

摘要

采用超高真空反应射频磁控溅射方法,利用高纯Ti靶在光学玻璃基底上制备具有一定厚度的TiO2薄膜样品.通过扫描探针显微镜对其表面形貌进行观测和分析,利用XRD初步探讨了退火对薄膜结构及其透射率的影响,并研究了不同O2/Ar流量比对薄膜沉积速率的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄美东	天津师范大学物理与电子信息学院	56	185	7.0	10.0
2	侯兴刚	天津师范大学物理与电子信息学院	12	24	3.0	3.0
4	吉亚萍	天津师范大学物理与电子信息学院	2	5	2.0	2.0
7	李鹏	天津师范大学物理与电子信息学院	7	44	2.0	6.0
8	张琳琳	天津师范大学物理与电子信息学院	5	51	3.0	5.0