应用脱细胞真皮基质补片和隧道技术进行根面覆盖:一组病例研究

• 作者: Hom-Lay Wang Marmar Modarressi 王宪娥
• 来源期刊: 中国口腔医学继续教育杂志
• 年，卷（期）: 2010,（4）
• 页码范围: 23-28
• 页数: 6页
• 语种: 中文

摘要

这项研究旨在证实应用脱细胞真皮基质补片(ADM)通过隧道技术进行根面覆盖以达到治疗Miller Ⅰ度或Ⅱ度牙龈退缩的目的.5例患者均有相邻2～5颗牙齿颊侧的牙龈退缩,应用脱细胞真皮基质补片通过隧道技术进行根面覆盖.由一个经过校准的不知情的检查者检测不同间隔时间的临床指标,包括探诊深度,临床附着丧失,角化组织宽度,牙龈退缩的深度,釉牙骨质界根方1mm处牙龈退缩的宽度,龈缘根方1mm及3mm处牙龈组织的厚度,菌斑指数,牙龈指数以及伤口愈合指数.在术后14d记录病人的不适,其后在术后180d记录整体的质量评估.结果显示,在术后1年时,61%的缺损得到了覆盖(相当于93.5%的根面覆盖),牙龈组织的厚度也增加了0.15mm.这表明,应用脱细胞真皮基质补片通过隧道技术进行根面覆盖是一种替代传统技术的可行方法,尤其是上颌前牙和前磨牙区域的多处退缩缺损.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	Marmar Modarressi	北京大学口腔医学院牙周科	1	0	0.0	0.0
2	Hom-Lay Wang	北京大学口腔医学院牙周科	4	0	0.0	0.0
3	王宪娥	北京大学口腔医学院牙周科	5	0	0.0	0.0