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摘要:
提出了基于酞菁染料的全息记录材料,与目前已报道的基于丙烯酞胺基单体光聚合型全息记录介质相比,该聚合体系显示了优良的全息特性:全"干"热后处理,良好的抗水性和环境稳定性,制备过程简单和低毒性,并可制备成较厚的感光膜层.针对存储过程的页间和页内串扰做了理论分析和MTALAB仿真,采用自主研制的抗水性光致聚合物材料记录多幅不同图像的实验方案,分析了本抗水性全息材料的角度复用性能.
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文献信息
篇名 抗水性光致聚合物的体全息存储研究
来源期刊 光学与光电技术 学科 工学
关键词 酞菁 抗水性光致聚合物 体全息 角度复用
年,卷(期) 2010,(4) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 76-79
页数 分类号 TQ57
字数 2827字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1672-3392.2010.04.019
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 蔡静 湖南科技大学物理学院 14 36 4.0 5.0
2 王雁桂 国防科学技术大学理学院 8 19 3.0 4.0
3 陈卫 国防科学技术大学理学院 4 4 1.0 2.0
4 胡小景 国防科学技术大学理学院 5 10 2.0 3.0
5 黎全 国防科学技术大学理学院 21 178 7.0 13.0
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研究主题发展历程
节点文献
酞菁
抗水性光致聚合物
体全息
角度复用
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光学与光电技术
双月刊
1672-3392
42-1696/O3
大16开
武汉市阳光大道717号
38-335
2003
chi
出版文献量(篇)
2142
总下载数(次)
3
总被引数(次)
9791
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