HClO4-CrO3-石墨层间化合物的制备及其性能

• 作者: 刘丽梅 周明善 李澄俊 陶勇
• 来源期刊: 新型炭材料
• 学科: 工学
• 关键词: 石墨层间化合物 膨胀容积 膨胀石墨 化学氧化
• 年，卷（期）: 2010,（5）
• 页码范围: 389-394
• 分类号: TB34
• 字数: 4341字
• 语种: 中文

摘要

以天然鳞片石墨、CrO3、HClO4为原料,采用化学氧化法制备石墨层间化合物(GIC);研究了反应物用量、反应时间、反应温度对石墨层间化合物膨胀容积的影响.结果表明:按石墨∶三氧化铬∶高氯酸(质量比)=1∶0.3∶5,反应温度30℃,反应时间60min的条件,可制得膨胀容积为555mL·g-1的石墨层间化合物.采用FTIR、XRD、TG等技术对石墨层间化合物的组成、结构进行表征和分析得知:石墨层间的插入物为ClO4-、Cr2O72-.GIC性能特点测试结果说明:所制GIC具有低能耗性能、良好的真空安定性、较好的8毫米波动态衰减效果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李澄俊	南京理工大学化工学院	36	448	13.0	19.0
2	陶勇	南京理工大学化工学院	6	40	4.0	6.0
3	刘丽梅	云南广播电视大学化工学院	2	20	2.0	2.0
4	周明善	云南广播电视大学化工学院	1	13	1.0	1.0