温度对DO22结构Ni3V反位缺陷影响的微观相场法模拟

• 作者: 卢艳丽 张静 王永欣 苗海川 陈铮
• 来源期刊: 有色金属
• 学科: 工学
• 关键词: 金属材料 反位缺陷 微观相场 Ni3V 择优占位
• 年，卷（期）: 2010,（3）
• 页码范围: 6-11
• 分类号: TG146.15|TG113.12
• 字数: 4078字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.2095-1744.2010.03.002

摘要

运用微观相场法研究温度对DO22结构反位缺陷的影响.结果显示,无论是α亚晶格上的反位缺陷VNi和AlNi还是β亚晶格上的NiV和AlV,其值均随温度升高而升高.β亚晶格上的反位缺陷NiV随温度升高而升高的速率和幅度最大,并且无论是在低温还是高温下其值均大于其他类型的反位缺陷值.Al原子在α亚晶格的占位几率高于在β亚晶格的占位几率,Al优先占据α亚晶格.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈铮	西北工业大学材料学院	206	808	13.0	18.0
2	王永欣	西北工业大学材料学院	129	485	10.0	15.0
3	张静	西北工业大学材料学院	61	462	10.0	19.0
4	卢艳丽	西北工业大学材料学院	52	145	6.0	8.0
5	苗海川	西北工业大学材料学院	7	23	3.0	4.0