BDD 电化学结合表面活性剂的新型清洗方法

• 作者: 刘效岩 刘玉岭 周强 高宝红
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石膜电极 电化学氧化 氧化液 颗粒 有机物
• 年，卷（期）: 2010,（9）
• 页码范围: 859-862,888
• 分类号: TN304.18|TN305.97
• 字数: 3734字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353x.2010.09.001

摘要

提出了一种新型抛光后的清洗方法,采用掺硼金刚石膜作阳极的电化学方法制备出氧化液,用其去除表面有机污染物,同时配合使用非离子表面活性剂去除表面固体颗粒.用金刚石膜电化学制备出氧化液,克服了单纯电化学氧化生成的强氧化性羟基自由基不稳定和寿命短等缺点,实现氧化能力持久保持.表面活性剂能有效地去除表面颗粒,清洗后Si片上会有残留物,氧化液可以将残留物去除.通过实验对比发现,这种新颖的清洗方法在颗粒和有机物去除上有很好的清洗效果,能够满足微电子工艺的发展需求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘玉岭	河北工业大学电子信息学院	263	1540	17.0	22.0
2	刘效岩	河北工业大学电子信息学院	20	133	8.0	10.0
3	高宝红	河北工业大学电子信息学院	29	61	4.0	5.0
4	周强	河北工业大学电子信息学院	3	7	2.0	2.0