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摘要:
研究了以硝酸为主成分的酸性蚀刻液.采用静态蚀刻的实验方法,通过测定蚀刻液对印制电路板铜箔的蚀刻速率和侧蚀量,考察了几个独立因素的影响.结合正交实验得出硝酸型酸性蚀刻液的最佳组分及工艺条件为:Cu2+质量浓度为(140±10)g/L,硝酸浓度为(2.5±0.5)mol/L,温度为(50±5)℃.在该条件下,静态蚀刻速率可达到10 μm/min,且侧蚀量小.此外,还考察了抑烟剂对蚀刻速率的影响.
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关键词云
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文献信息
篇名 硝酸型酸性蚀刻液蚀刻工艺的研究
来源期刊 表面技术 学科 工学
关键词 硝酸 硝酸铜 蚀刻液
年,卷(期) 2010,(3) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 87-89
页数 分类号 TG176|TN405
字数 2563字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1001-3660.2010.03.025
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李德良 44 491 12.0 21.0
2 李佳 15 147 6.0 12.0
3 莫凌 2 24 2.0 2.0
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研究主题发展历程
节点文献
硝酸
硝酸铜
蚀刻液
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
表面技术
月刊
1001-3660
50-1083/TG
16开
重庆市2331信箱(重庆市九龙破区石桥铺渝州路33号)
78-31
1972
chi
出版文献量(篇)
5547
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