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直流热阴极PCVD法CH4:N2:H2气氛下制备纳米金刚石膜
直流热阴极PCVD法CH4:N2:H2气氛下制备纳米金刚石膜
作者:
姜宏伟
彭鸿雁
王军
陈奇
陈玉强
高福毅
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
直流热阴极
PCVD
纳米金刚石膜
摘要:
采用直流热阴极等离子体化学气相沉积(PCVD)技术,在CH4:H2中加入N2改变等离子体能量分布状态,提高二次形核比例,制备纳米金刚石膜.在CH4:H2气体中,在不同压力和温度下,改变通入N2的比例,分析直流热阴极等离子体放电下N2对金刚石膜生长的影响.采用拉曼光谱仪、扫描电镜(SEM)和X射线衍射分析仪(XRD)对样品进行了表征,结果表明,直流热阴极PCVD系统中,CH4:N2:H2气氛下,N2流量小于气体总流量的50%时,在6×103 Pa、850℃条件下,制备的金刚石膜样品的晶粒小于100nm、金 刚石1332 cm-1特征峰展宽且强度较高、金刚石的XRD衍射峰强度也较高,具备纳米金刚石膜的基本特征.因此,利用直流热阴极PCVD方法,在较低温度和气压下,CH4:H2中加入少量N2,可以制备出纳米金刚石膜.
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文献信息
篇名
直流热阴极PCVD法CH4:N2:H2气氛下制备纳米金刚石膜
来源期刊
真空
学科
化学
关键词
直流热阴极
PCVD
纳米金刚石膜
年,卷(期)
2010,(5)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
35-38
页数
分类号
O613.71|TQ163
字数
3249字
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
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被引次数
H指数
G指数
1
陈奇
牡丹江师范学院新型炭基功能与超硬材料省重点实验室
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姜宏伟
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直流热阴极
PCVD
纳米金刚石膜
研究起点
研究来源
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研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空
主办单位:
中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1002-0322
CN:
21-1174/TB
开本:
大16开
出版地:
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
邮发代号:
8-30
创刊时间:
1964
语种:
chi
出版文献量(篇)
2692
总下载数(次)
3
总被引数(次)
12898
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