金属铜薄膜的制备与红外发射率特性研究

• 作者: 刘祥萱 吴友朋 吴春 梁剑涛 蒋大勇
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 铜薄膜 化学镀 电阻率 红外发射率
• 年，卷（期）: 2010,（2）
• 页码范围: 34-37
• 分类号: TN976
• 字数: 3115字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2010.02.011

摘要

利用化学镀铜工艺,以次亚磷酸钠为还原剂,在普通平板玻璃表面制备了金属铜薄膜.用扫描电子显微镜,X射线衍射仪,四探针电阻仪,红外光谱辐射计等对薄膜的表面形貌、晶体结构和光电特性进行了表征,重点研究了金属铜膜的红外发射率与波长以及电阻率的变化关系,并与经典的Hagen-Rubens关系式进行了对比.结果表明:铜膜的发射率随波长的增大而降低,在特定的波段,发射率随电阻率的升高而增大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴春		1	6	1.0	1.0
2	刘祥萱		1	6	1.0	1.0
3	蒋大勇		1	6	1.0	1.0
4	梁剑涛		1	6	1.0	1.0
5	吴友朋		3	27	3.0	3.0